Científicos chinos desarrollaron una fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) competitiva, desafiando el dominio de ASML y sorteando las restricciones impuestas por Estados Unidos.
Un hito tecnológico en medio de sanciones
Investigadores del Instituto de Óptica de Shanghái lograron crear una alternativa a las máquinas EUV de ASML. Este avance podría permitir a China producir chips avanzados sin depender de tecnología extranjera.
El equipo, liderado por el exingeniero de ASML Lin Nan, superó en eficiencia energética a los modelos europeos. El logro se publicó en la revista Chinese Journal of Lasers.
Tecnología que desafía el status quo
El sistema chino utiliza láseres de estado sólido en lugar de los tradicionales de CO2. Aunque menos potentes, son más compactos y eficientes energéticamente.
Alcanzó un 3.4% de eficiencia, superando el 3.2% del centro neerlandés en 2019. Esto marca un paso crucial hacia la autonomía tecnológica china en semiconductores.
Contexto geopolítico del avance
ASML, único fabricante mundial de máquinas EUV, tiene prohibido vender a China desde 2019. Las restricciones fueron impulsadas por Washington.
Este desarrollo muestra cómo Pekín acelera su innovación ante las limitaciones occidentales. Expertos advierten que podría reconfigurar el mercado global de chips.
Retos pendientes
- El prototipo aún está en fase experimental
- Requiere escalarse para producción masiva
- Debe competir con la madurez tecnológica de ASML
Sin embargo, el avance simboliza la capacidad china para sortear barreras tecnológicas impuestas. El camino hacia la independencia en semiconductores parece acelerarse.
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